產品簡介 

      AT-XTB狹縫縫式涂布試驗機由山東安尼麥特儀器有限公司精心研制高精度精密型涂布試驗機，主要應用于，在玻璃，硅片柔性基板上涂布鈣鈦礦，光電，催化溶液等材料。

  由于常規(guī)實驗室涂布試驗機，受到刮刀調節(jié)，底板平整度等的影響很難達到涂布納米級膜，狹縫式涂布試驗機，底板采用檢驗級大理石平臺，同時采用非接觸式狹縫式涂布頭，通過進料壓力，狹縫寬度調節(jié)，以及狹縫頭與底板間隙三個因數控制濕膜厚度，同時軟件系統(tǒng)增加了高度調節(jié)與反饋系統(tǒng)，大大提高了涂布精度與均勻性。在國內光學膜涂布實驗室研發(fā)打樣階段得到了廣泛的應用。

 技術參數

• 1. 產品型號：    AT-XTB-40C

• 2. 涂布方式：狹縫式涂布頭

• 3. 涂布頭數量：2個  （一個低粘3-300cps，一個高粘300-7000cps)

• 4. 涂布寬度范圍：246mm(255mm刮刀寬度）

• 5. 狹縫涂布頭上下移動速度：1-100mm/min

• 6. 涂布頭上下移動距離：150mm

• 7. 涂布頭上下移動控制電機：伺服電機

• 8. 涂布頭與底板距離調節(jié)精度：0.002mm

• 9. 刮刀距離控制方式：光電測距傳感器

• 10. 涂布濕膜厚度范圍： 5-100um

• 11. 干膜厚度范圍：  2-20um  (根據固含量不同干膜厚度范圍有偏差）

• 12. 涂布固含量范圍：1-70%

• 13. 粘度范圍：3-300CPS  (柱塞泵） 300-7000CPS(齒輪泵）

• 14. 進樣速度范圍：1.8-18ml/min

• 15. 涂布速度（橫向移動）：1-30mm/s  任意設定

• 16. 涂膜均勻性：3-5%

• 17. 涂布平臺材質：微孔陶瓷板

• 18. 涂布平臺尺寸：160X150-400X260mm(兩個獨立真空區(qū)） 420X420mm外形尺寸

• 19. 氣體凈化：上下FFU凈化單元，空氣灰塵凈化，操作區(qū)域封閉式

• 20. 機體材質：主框架鋁合金，真空板模具鋼，機殼304不銹鋼

• 21. 控制方式：觸摸屏

• 22. 電器件：歐姆龍

• 23. 電機：匯川伺服

• 24. 傳動件：臺灣TBI

• 25. 氣源壓力：0.6MPa

• 26. 供液罐：有   自然/真空/正壓  三種方式

• 27. 設備總功率：1000W

• 28. 設備尺寸：900mmX480mmX450mm

• 29.電源電壓：220V  50 Hz

 產品特點

1.采用滾珠絲杠傳動，運行平穩(wěn)性更好

2.速度數字化可調，可以根據需要選擇合適的速度.

3.高精度國產涂布頭，加料方便，涂布精度高，均勻性好

4.觸摸屏控制，自動化程度高，涂布距離可設定，有效保證了涂布試樣的尺寸。